众所周知，，由于多方面原因的影响，，，2021年全球迎来了“缺芯时代”，
，，芯片的短缺程度已经达到了30年来最严重的时刻。。

而我国由于受到以美国为首的西方国家的联合绞杀
，，缺芯的情况尤为严重。。

中国手机界的领头羊华为，，因芯片短缺甚至卖掉了荣耀品牌中心，，
，，在美国的针对下，，，，我们似乎显得很被动，，
，难道有着世界加工厂之称的中国，，，就没有能力自主生产芯片吗？？？？

事实上
，
，中国在芯片设计领域一直处于世界领先水平
，，，就比如说华为的手机芯片，，，都是我们自行设计后交给台积电代工生产的，，其性能有目共睹，，，并不比美国生产的要差。。

那么，，，既然我国在设计芯片上没有问题，，，
，为什么还是被卡住了咽喉呢？？？其中的关键，，就在于一种制造芯片必不可少的机器——光刻机
。。。

其实芯片不过是一块具有精密线路图的硅片，
，，，而如何才能将复杂的电路图复刻到硅片上，，，这就要靠光刻机了。。。。

说起来，，光刻机的工作原理与照相机有些类似，，，，在制作芯片时，
，，，首先要对硅片进行处理，
，，，一般是在上面涂上一层光刻胶
，，，当光刻胶遇到透过模版照射的光线后，，，，暴露在紫外线下的部分
，，就会发生特殊的变化
。。

之后再经过填充金属物，，去除光刻胶，，
，进行绝缘处理等步骤
，，一块芯片就制作完成了。。

当然
，
，至于这块芯片是否能够达到标准，
，，，还要经过精密地检测，，，，要知道，，，这其中任意一步处理过程，
，，，可都是纳米级的，，所以光刻机绝对称得上人类高精尖仪器的天花板。。

提起世界上最顶尖的光刻机制造商
，，非荷兰的ASML公司莫属。。

这家公司成立于1984年，，，用了三十多年的时间，
，，几乎垄断了全球高端光刻机市场。。。

ASML公司的发家史众人皆知，
，，但恐怕很少有人知道，，，
，中国早在1977年就拥有了独立制造接触式光刻机的能力，，，，比ASML公司成立的时间还要早上7年。。。
。

按说，，，中国在研制光刻机的时间上，，可是比ASML公司有优势的多，，
，，可为什么后劲不足，，，
，经过数十年的发展，，反而难以望其项背了呢
？？？

第二次世界大战结束后
，，，，和平和发展成为了国际社会的主题，，，
，为了改变中国贫穷落后的局面
，
，跟上世界科技发展的步伐，，
，，国家决定成立计算机科研小组，，，，由著名数学家华罗庚担任组长，，致力于电子计算机技术的研究和开发。。

到了1956年，，科研小组取得了巨大成就，，，我国首次独立制造了第一只晶体三极管，
，
，由此刻起，，中国正式踏足半导体领域，，开启了新的科技时代。。

经过众多科学家的不断探索和尝试，，，，中国在半导体领域取得了长足的进步，，，1965年
，，在第一只三极管横空出世的9年之后，
，，，中国的第一块集成电路在上海问世。。。

而要制造集成电路，，，，光刻机是必不可少的设备，，，由此我们不难推断出，，早在1965年前后，
，我国就已经拥有了制造光刻机的能力。。

1977年，
，，，我国更是制造出了GK-3型半自动光刻机，，这在当时绝对是站在了世界前列
。。。
。

在此后的数年时间里，，中国的半导体事业一路高歌猛进，，，，光刻机制造技术也跟着水涨船高。
。。。

到了80年代，，
，中国的半导体技术已经达到了世界先进水平，
，虽然比之美国还略有不足，，，但也不再是高山仰止。。

如果按照这个势头发展下去，，，中国在光刻机制造方面，，虽不敢说赶超美国，，，
，但想必差距也不会如此之大。
。。。

毕竟在改革开放之前，，，中国整个半导体产业链都能够自给自足，，根本不需要进口。。
。

但随着改革开放的实行，
，国际市场全面放开，
，大批外国企业纷纷涌入中国
，，，这样一来，，许多国际上先进的设备和技术
，，，，我们就可以用钱买到了。
。。。

当时绝大多数企业的当家人都算了这样一笔账
，，如果把投入到科研项目上的资金，，
，，拿出来用于购买外国的先进设备
，，
，似乎更为划算一些，，毕竟当时的中国经济条件有限，，与其投入大量资金搞研发，，
，费时费力，，生产出来的设备还没有人家先进，，，不如直接买现成的来用
，，这样能直接形成经济效益，，，岂不美哉？？

结果很多企业也就没了搞开发的动力，，，即便有一些企业依然坚持自力更生，，，但没有足够的资金注入，
，妄想在光刻机领域更进一步
，，，，无异于痴人说梦。。。。

于是从这时起，，，中国在光刻机领域就陷入了停摆的状态，，在随后的30年时间里，，几乎没有一点进步
。。。
。

就当时的国际环境来看，，，，这种“造不如买”的想法，，也不能说是错的，，毕竟快速发展经济才是中国的第一要务，，而且当时美国最大的敌人还是苏联
，，
，中国则是美国拉拢的目标
。。

因此无论是在经济上，，还是在技术上，，美国非但没有限制我们，，
，还给了我们许多支持。。
。。

只不过谁也没料到的是，，美中两国的蜜月期会是如此短暂，，，，只经过了十几年时间
，，，美国就翻脸不认人了。。。

1996年《瓦尔纳协定》的出炉，，，，彻底暴露了美国遏制发展中国家的真实嘴脸。。
。
。

该协定中规定了两大类清单的禁运内容
，，
，，包括先进材料、、材料处理、、电子器件、、计算机、
、、、电信与信息安全、
、、传感与激光、、、
、导航与航空电子仪器、、船舶与海事设备、、、推进系统、
、、
、各类武器弹药、、、、设备及作战平台。
。。
。

而中国，
，，，便在这禁运名单之内，
，直到此时，，，中国才如梦初醒，，，，真切地体会到所谓的国际盟友根本就靠不住，，一切只能依靠自己
。。。。

有了这个协定
，
，，，中国再想像过去一样，，，随时向发达国家购买像光刻机这样的先进设备，，就没那么容易了
，，，，换句话说，
，，
，中国能不能买到光刻机，，，美国说了算。
。。

自《瓦尔纳协定》签署至今，
，
，，中国还没能购买到哪怕一台高端的光刻机
，，，甚至其中的零件都买不到。。

不过在整个90年代，
，世界上的光刻机技术也陷入了瓶颈
，，光刻光源卡在了193纳米，，，
，20多年毫无进展。
。

2000年，，中国幡然醒悟，，光刻机的研发再次受到了国家的重视。。。

随着越来越多的半导体科研人才从海外归来
，
，2002年3月，，，国家在上海成立了上海微电子装备有限公司
，
，致力于光刻机技术开发
。。

也是在这一年
，，台积电的林本坚博士终于攻破了光刻机193纳米技术难题，，，，世界光刻机技术开始一路高歌，
，，，突飞猛进。。。。

中国此时则刚刚开始193纳米光刻机的开发，，，，已经远远落后于世界发达国家，
，经过了10多年的努力，，，中国在光刻机技术领域已有了长足的进步
，，，但直到今天，，在高端光刻机领域，，，仍然找不到中国的身影。。

按说有着世界工厂之称的中国，，，，制造业应该是比较发达的，，，，可为什么制造高端光刻机却把我们给难住了呢？
？？？

如果关注一下我国制造业的讯息，，，不难发现，，虽然在某些领域中，，
，中国的制造水平能够进入世界第一梯队
，，甚至能够领先世界，，，但在很多方面，
，
，我们依然落后于发达国家良多。。。

尤其是高端材料制造业更是中国工业的短板，，，
，就拿高端光刻机中最核心
、、、也是技术含量最高的零部件，，，，光学镜片和光源来说，，曾经的中国根本就没有能力制造
。。
。

更何况一台高端光刻机
，
，拥有数万甚至十几万个精密零件组成，，至今为止
，，，
，世界上还没有哪个国家能够独立制造高端光刻机，，，即便是ASML公司也做不到。
。

ASML公司之所以能够迅速崛起，
，，，与西方发达国家的支持是密不可分的，，，该公司有一条十分睿智的规定，，那就是想要获得该公司的优先供货权，
，，
，就必须进行投资。。

也就是说，，
，世界上的发达国家或多或少都拥有ASML公司的股权，，，比如台积电
，，，蔡司
，
，
，，三星，，英特尔，，，，海士力等，，，换句话说，
，
，
，整个西方世界都是该公司的后盾，
，
，据统计，，该公司每年用于科研开发的资金就超过了4亿欧元
。。

即使强如ASML，，其生产的高端光刻机也有90%以上的零件来自进口
，，，比如最核心部分的EUV光源来自德国和美国，，，，光学镜片来自蔡司公司，
，，还有一些零件来自于日本，
，我国的台湾省等。
。
。

可以说ASML的成功是众多世界顶级企业一起努力的结果
，，所以它能够成为世界上唯一一个有能力制造7纳米EUV光刻机的公司，，，，丝毫不会让人感到意外。。。。

除了光学镜片和光源外，，
，还有一种看起来不太起眼的材料，，也严重制约了我国芯片制造业的发展，，，
，那就是光刻胶。。
。

当然，，，光刻胶的技术含量远远比不上光学镜片和光源，，但这并不代表着它不重要。。。

光刻胶性能越好，
，制造出的芯片质量越优，
，，与其他高精尖零件不同的是，，，我国完全有能力制造高端光刻胶，，即使不如日本，，，，也相差不大。。

可关键是，，，，过去我国投资光刻胶生产的企业实在是太少了，，
，国产的光刻胶根本无法满足中国市场的需求
，，因此我国的绝大部分光刻胶都要从日本进口，，
，一旦日本限制出口量，，对我国影响巨大。
。。。

由此可见
，，想要完全凭借本国一己之力，，
，打造出一台高端光刻机有多困难
，，哪怕就是在去年，，也有很多专家公开表示
，
，，
，中国想要独立制造高端光刻机的希望不大
。
。。。

不过我国素来善于创造奇迹，，，，尤其是在面对来自外界的压迫时，
，，，更能够爆发出让世界意想不到的力量
，
，
，由于近几年美国对中国的制裁不断升级
，，
，，中国不得不加大在芯片制造领域的投资力度。。。。

随着时间的推移，，中国在光刻机的关键技术领域都取得了喜人的成绩，，
，不久前中科院传出一条喜讯，，
，，清华大学和联邦技术学院合作开发了一种新型粒子加速器，，通过实验证明，，，，这项技术完全可以为光刻机提供稳定可靠的EUV光源。。

无独有偶，
，中科科美业同时传来喜讯，，，其研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置也于今年6月28日正式投入使用。
。。

那么，，，
，镀膜技术跟光刻机又有什么关系？
？
？？

首先我们要了解的是，，，EUV光刻机对光学镜片的光洁度要求相当之高，，，，即表面光洁度不得超过50皮米，，，
，其困难程度不亚于制造一面方圆390000平方公里的镜子。
。。

中科科美的这项镀膜技术，
，，不但能够实现光学镜片的光洁度，，还能实现光学镜片对光的反射、、、、分束、、、分色、、滤光以及偏振等在不同情况下的特殊要求
。
。

这两大核心技术的突破
，
，使我国在高端光刻机制造领域向前跨了一大步，，相信假以时日，
，中国一定能够具备独立制造高端光刻机的能力。
。。
。

当然，，，，即便我们手里有了世界上最先进的光刻机，，，
，也不意味着中国能在芯片制造领域一骑绝尘，，
，，相比起这些硬件设备，，有着“芯片之母”之称的EDA软件则更为棘手。。
。。

想要设计芯片，，，工程师离不开EDA软件
，，虽然由于有能力设计芯片的公司数量有限，，造成EDA软件的市场并不是很大，，，但它却是制造芯片的第一步，，
，离开EDA软件，，即使拥有世界上最先进的光刻机，，，，也不过是一推废铁而已。。。

现今世界上最大的EDA软件商有三家，，
，，分别是Synopsys、、Cadence以及Mentor。。。

曾经他们垄断了超过80%的中国市场，，，，不过自从受到美国制裁后
，，，中国政府越发认识到，，像这种买不到的核心技术，，
，
，必须进行国产取代，，才能最大限度地摆脱中国对发达国家的依赖
。。。。

近年来国家和一些大型企业如华为等，，，，都在不断增加这方面的投资
，
，只不过想要在技术上取得突破
，，，仍然任重而道远。。
。。

华大九天作为国产EDA软件的老大，，其制作的软件，，，也仅仅只能实现模拟芯片设计和平板设计全流程覆盖，
，
，，覆盖率约为 40%。。。

此外，，，国际上最先进的EDA软件其工艺已经达到了2纳米，，
，而国产软件最高端的也仅仅只有一款能够达到5纳米。。。

可以说在设计软件方面
，，
，发达国家已甩了我们好几条街，，，，不过可以确定的是，，华为事件发生之后
，
，随着国家政策的倾斜，，以及资本的关注，
，
，中国的EDA软件必会奋起直追
，，，达到世界一流水平并不遥远
。
。。

总而言之，，，
，以美国为首的发达国家，
，之所以会联合起来对中国进行全方位的围追堵截
，
，恰恰是因为中国已经有了威胁他们的资格，，，发达国家尤其是美国惧怕中国进一步发展，，从而威胁到其世界霸主的地位，，，才会无所不用其极的遏制中国发展。。

美国的一套组合拳确实给中国带来了很大麻烦
，，，，但这又何尝不是一个让中国优化产业结构，，，
，摆脱对发达国家依赖的机会？
？？？

正所谓危机、、、
、危机
，，，，危中有机，，，如果中国通过这次教训，，，
，能够认清现实，，未尝不能转危为机！！！